Üst düzey ürün silikon nitrür

Kısmen kristalize edilmiş silikon mozaik mikro yapılarsilikon nitrürLPCVD tarafından hazırlanan filmler. Büyüme koşullarına ve sürece bağlı olarak, yapının ölçeği onlar arasında yüzlerce nanometreye kadar değişir. Stres testi sonuçlarına ve transmisyon elektron mikroskopisi gözlem sonuçlarına dayanarak, farklı koşullar altında yetiştirilen sinx filmlerinin, silikon açısından zengin SINX filmlerinin mikro yapısının oluşumu ve filmdeki stresle etkileşimleri analiz edildi ve silikon açısından zengin SINX filmlerinin LPCVD büyüme sürecini, filmin gerilimi optimize edildi ve filmin gerilmesini büyük ölçüde azalttı. 40mm × 40mm. Bu çalışmanın sonuçlarına dayanarak, belirlenmiş gerilme stresi ile sinx membranların kontrollü büyümesi LPCVD tarafından gerçekleştirilmiştir.

1.Silikon nitrürİnce filmler (sin _ x), sırasıyla silikon ve azot kaynakları olarak silan ve amonyak kullanılarak düşük basınçlı kimyasal buhar birikimi (LPCVD) teknolojisi ve taşıyıcı gazı olarak yüksek saflık azotu ile hazırlandı. Sin _ X filmlerinin büyüme kinetiği, elipsometri ile incelendi, Sin _ X filmlerinin özellikleri, Fourier kızılötesi spektroskopisi ve X-ışını fotoelektron spektroskopisi ve atomun mikroskik morfolojisinin mikroskik morfolojisi ile karakterize edildi. Diğer süreçlerin aynı koşulları altında, sin _ x filminin büyüme oranı, çalışma basıncının artmasıyla monoton olarak artar ve besleme gazındaki amonyak akış hızının (r) filmin büyüme hızı üzerinde zıt bir etkisi vardır. Reaksiyon sıcaklığı arttıkça, biriktirme oranı kademeli olarak artar, maksimum 840 dereceye ulaşır ve daha sonra hızla azalır. R2 kullanıldığında, Si açısından zengin bir sin _ x ince film (x1.33) elde edilir. R4 kullanıldığında, yakın stokiyometrik (Z≈1.33) olan bir sin _ X filmi elde edilir.

Popüler Etiketler: Üst düzey ürün silikon nitrür, Çin yüksek seviyeli ürün silikon nitrür üreticileri, tedarikçiler, fabrika